«ВЗПП-Микрон»: создается передовая технология производства чипов

2 апреля 2025 г.

Завод работает над созданием нового типа кремниевых подложек – кремниевых структур со сквозными каналами р-типа (КССК). Они представляют собой тонкую круглую пластину из полупроводников, на поверхности которой формируются интегральные схемы, разделяемые на отдельные чипы. Кремниевая подложка предназначена для широкого спектра предприятий электронной промышленности, как исходный материал с уникальными свойствами. Проект реализуется с привлечением средств из федерального бюджета.

Как пояснили на предприятии, основное направление развития данной технологии сосредоточено на полной изоляции периферии кристалла сквозным р-n- переходом. С мировой практике аналогичные структуры исследуются специалистами известных европейских фирм LAAS-CNRS, STMicroelectronics, Infineon и др.

В настоящее время на привлеченные средства была смонтирована уникальная установка, позволяющая выполнять процесс термомиграции, а также организованы дополнительные виды контроля. Также предприятие вкладывает собственные средства в расширение номенклатуры продукции по данному направлению.

Напомним, «ВЗПП-Микрон» является одной из крупнейших «кремниевых» фабрик по производству и экспорту электронно-компонентной базы для микроэлектроники и силовой электроники. Завод входит в ГК «Элемент». На предприятии действует современный высокотехнологичный комплекс по проектированию и производству кристаллов полупроводниковых приборов и интегральных схем в составе кремниевых пластин, в том числе в корпусном исполнении.

2 апреля 2025 года, Промышленные вести.